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2026-01-21 08:38
cninfo1168043：公司目前半导体清洗设备前景怎么样？目前在手订单如何？是否会受益于现在半导体的发展？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司通过不断探索臭氧技术在半导体行业的应用，已经研发出专用的“臭氧产生、溶解、检测分解”相关全系列核心部件与臭氧装备，能够为半导体、光伏、面板等行业提供超纯高浓度臭氧气体设备及机能水设备。未来，公司将继续紧跟行业需求，以客户需求为导向，提供臭氧应用系统解决方案，为半导体设备国产化发展做出贡献。公司具体经营情况请关注定期报告。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:37
irm1347477：公司臭氧设备在半导体洁净室、生产车间及产线半导体设备上的洁净消毒上的作用是什么？
国林科技：尊敬的投资者，您好。臭氧水具有高氧化性，同时兼具清洁效率和环保特性，能够满足各类场合中臭氧杀菌消毒的需求。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:36
irm1573149：您好，国家大力发展芯片半导体国产替代，很多芯片类型公司陆续上市，扩产，涨价，设备需求大增，请问子公司的国林半导体产品能满足芯片半导体制造的哪些环节？谢谢
国林科技：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:36
irm1347477：公司的半导体臭氧设备产生的臭氧能否在3D NAND存储芯片结构中形成纳米级均匀氧化层？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:12
irm1347477：公司12.20股东数？
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2025年12月19日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计22,517人。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:12
irm1347477：公司开始有人形机器人领域的技术应用吗
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司业务暂未涉及该领域，公司将积极关注行业动态。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:11
irm1347477：公司自主研发的用于存储芯片薄膜沉积和清洗用的半导体设备是否已经量产？
国林科技：尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，正在量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中；公司将持续开拓新客户。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:07
irm1347477：公司近期半导体设备新收货订单情况如何？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司经营情况请关注公司在指定媒体上披露的定期报告。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:05
irm1347477：公司涉及hbm高带宽存储芯片制造过程中的半导体设备有哪些？
国林科技：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:02
irm1856561：请问12月底的股东人数多少，谢谢
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2025年12月31日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计22,825人。感谢您的关注。
