国林科技 (sz300786) +添加自选
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  • 2026-04-06 16:57
    irm1347477:公司的制氢技术如何?有哪些氢气类设备产品?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。公司具备制氢技术储备,但目前暂未涉及制氢技术相关领域的产业化应用。感谢您的关注。
  • 2026-04-06 16:56
    irm1446825:公司定向增预案已于2月27日公告获股东会审议通过。目前申报进展如何?最迟何时能走完申报审批流程?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。公司本次定增事项正在有序推进中,后续将根据项目进展及信息披露规则及时公告相关情况。感谢您对公司的关注。
  • 2026-04-06 16:56
    irm1347477:公司臭氧水对光刻机等半导体设备清洁杀菌效果如何?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。子公司国林半导体现有产品包括:半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品;详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
  • 2026-04-06 16:55
    irm1357118:董秘好,请问公司的产品是否能应用在半导体、医药洁净室领域作为相关设备,是否有斩获相关领域企业订单
    国林科技:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。子公司国林半导体现有产品包括:半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品;详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
  • 2026-04-02 15:20
    irm1347477:截止到3.30日的股东人数?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。截至2026年3月31日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计19,179人。感谢您的关注。
  • 2026-04-02 15:19
    cninfo1313513:董秘您好,请问截止到3月31号,公司股东户数是多少,谢谢!
    国林科技:尊敬的投资者,您好。截至2026年3月31日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计19,179人。感谢您的关注。
  • 2026-03-30 15:00
    irm1446825:请问公司的乙醛酸产品可以满足电子级和医药级用途吗?在电子级应用方面,公司产品可用于哪些领域?进行了哪些相关验证?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。公司所生产的乙醛酸产品不含乙二醛、氯离子等有害物质,产品纯度高、杂质含量低,目前主要应用于化妆品、香兰素、医药、螯合肥等多个领域;公司生产的乙醛酸一水化合物合格品浓度≥98%,优级品浓度≥ 98.5%,公司可对产品进一步提纯以满足不同客户需求。感谢您的关注。
  • 2026-03-30 15:00
    irm1347477:为了公司的半导体业务良好发展,建议公司将半导体业务相关的朗科电子、国林半导体、国林陶瓷新材料三家子公司进行整合,统一为国林半导体品牌。然后单独设立微信公众号,像珠海智桦、苏州晶拓那样进行日常性信息展示,包括但不限于行业技术交流分享、技术研发成果展示、产品设备成果展示、业务合作开展情况等。
    国林科技:尊敬的投资者,您好。感谢您对公司的关注与支持,您的建议公司会认真考虑。
  • 2026-03-30 15:00
    irm1347477:请问公司,目前臭氧水清洗和臭氧薄膜沉积、臭氧原子层沉积,在国内的半导体市场应用情况如何?是否能够成为主流?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
  • 2026-03-24 11:30
    irm1347477:截止到3.20的股东数?
    国林科技:尊敬的投资者,您好。截至2026年3月20日,公司股东人数(合并普通账户和融资融券信用账户)共计19,202人。感谢您的关注。
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