清溢光电：尊敬的投资者，感谢您对公司的关注！硅基OLED（OLEDonSilicon）是一种将OLED技术与硅晶圆结合的显示技术，它利用硅晶圆作为基底来制造OLED屏幕。这种技术由于其轻薄、高分辨率、高对比度、低功耗等特点，特别适合用于虚拟现实（VR）、增强现实（AR）和混合现实（MR）等近眼显示设备。在VR领域，硅基OLED显示屏被看作是下一代VR头显的主要显示方案。与目前主流的Fast-LCD显示技术相比，硅基OLED在亮度、对比度、响应时间、功耗、体积等方面具有显著优势。例如，它可以提供更宽广的视场角（FOV），减少纱窗效应和拖尾，改善用户的沉浸体验。公司主要产品为掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩膜版等。掩膜版在硅基OLED生产中扮演着重要角色，它是一种用于在硅基板上精确沉积OLED材料的工具。这一过程对精度要求极高，以确保每个像素的精确控制和高质量显示。在VR产品中，硅基OLED显示屏的高分辨率和快速响应时间对于提供逼真的虚拟体验至关重要。掩膜版技术的进步直接影响到显示屏的分辨率和显示效果，因此，掩膜版在VR相关产品的制造中起到了核心作用。随着技术的成熟和产业链的完善，硅基OLED显示屏及其掩膜版技术预计将在未来的VR/AR市场中占据越来越重要的位置。目前公司已在积极研发硅基OLED相关的掩膜版产品和技术，并已逐步向客户供货。

清溢光电：尊敬的投资者，感谢您对公司的关注！MR是指混合现实（MixedReality）的缩写，它是一种将真实世界和虚拟世界结合的显示技术。混合现实设备能够在用户的视野中同时显示真实世界和虚拟图像，实现两者的无缝融合。与虚拟现实（VR）和增强现实（AR）不同，虚拟现实完全替代用户的视觉，增强现实则在用户的视觉中叠加虚拟图像，而混合现实则是在真实世界中插入虚拟物体。MR硅基OLED是一种先进的显示技术，特别适用于近眼显示系统，如混合现实头显。硅基OLED显示屏使用单晶硅作为背板，通过在硅片上集成CMOS电路和OLED像素阵列，实现了高像素密度、低功耗、快速响应时间和优异的画质显示效果。在MR硅基OLED的生产过程中，确实会用到掩膜版。掩膜版是光刻工艺中的一种关键材料，用于在硅基板上精确地转移电路图案。在OLED显示器件的制造中，掩膜版用于定义OLED像素的形状和大小，以及控制像素的发光特性。因此，掩膜版的精度和质量对最终显示器件的性能有着直接的影响。随着混合现实技术的不断发展，对高性能的硅基OLED显示屏的需求也在增加，因此对掩膜版等相关制造材料的需求也随之增长。作为国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一，公司非常重视行业的动态和发展，也将积极布局。

清溢光电：尊敬的投资者，您好！截至目前，公司暂无回购计划，后续如涉及相关事项，公司将按照有关规定及时履行信息披露义务。感谢您的关注!

清溢光电：尊敬的投资者您好！掩膜版是晶圆厂生产晶圆必备的核心材料，掩膜版的市场容量与晶圆工厂的开模数量、开模精度，以及晶圆厂的产能等因素相关。上述数据取自SEMI发布的2022年的分析报告，如有疑问建议可以联系SEMI相关人员进一步确认。感谢您的关注！

清溢光电：尊敬的投资者您好！公司重视环境保护及公司治理，并积极履行社会责任，致力于成为对社会公众有益、可持续发展、高质量发展的企业，感谢您对公司的关注！

清溢光电：尊敬的投资者，感谢您对公司的关注！光刻机系公司主要生产设备，公司通过光刻机进行激光光束直写完成掩膜版的制作，下游客户再利用掩膜版进行批量生产。目前公司光刻机的供应商为瑞典Mycronic和德国海德堡仪器两家公司。

清溢光电：尊敬的投资者，您好！感谢您对公司的关注！公司自成立以来一直专注于掩膜版的研发、设计、生产和销售，具备从设计到工艺整套流程的技术开发实力，产品曾多次填补掩膜版领域国内空白，代表了中国掩膜版产业的领先技术水平，并于2022年8月被认定为国家级专精特新“小巨人”企业。在进行评选时，国家主管部门对专业化、精品化、特色化、创新能力、产业链配套、主导产品所属领域六项指标的达成情况进行综合考量。公司入选“小巨人”计划以来，持续加大研发投入，各类专利申请数量和持有数量持续增长，详情请关注本公司的定期报告及相关公告。目前公司专精特新“小巨人”企业资质在有效期内，公司将根据三年复核政策核查自身达成情况，及时调整各项工作计划，并按照规定申请复核。

清溢光电：尊敬的投资者！感谢您对公司的关注！公司的产品研发依据公司发展战略，市场竞争格局，未来产品发展趋势等因素予以布局，感谢对公司的关注，谢谢！

清溢光电：尊敬的投资者，您好！感谢您对公司的关注！由于公司与客户签订了严格的保密条款，不便回复具体客户信息，公司下游客户相关情况可参见公司已经披露的信息。

清溢光电：尊敬的投资者，您好！感谢您对公司的关注。根据佳能方面最新消息，该公司宣布推出新型纳米压印半导体制造设备，采用了纳米压印技术，可实现最小线宽为14nm的图案化，相当于5nm节点需要，生产目前可用的最先进的逻辑半导体。此外，随着掩膜版技术的进一步改进，纳米压印技术有望实现最小线宽为10nm的电路图案，对应于2nm节点。该技术是将设计有半导体电路图形的纳米压印掩膜母版通过压印的方式，将半导体电路图形转移到晶圆上，类似于用印章盖章的过程。我们初步了解光掩膜版技术是制造纳米压印掩膜母版的基础工艺和材料。未来随着半导体纳米压印技术的拓展，对光掩膜版的需求也会随之增加，但是目前关于该技术的资料较少，尚需进一步跟踪了解。公司在2013年开发了应用于传统触控屏掩膜版产品的纳米压印掩膜版工艺，并应用在早期的触控屏掩膜版产品中。对于佳能公司新推出新型纳米压印半导体制造设备，公司将积极关注并跟进其对应的技术要求。