3月30日晚间，中微公司(688012)披露2021年年度报告，报告期内公司实现营业收入31.08亿元，同比增长36.7%；实现净利润10.11亿元，同比增长105.5%；2021年公司研发投入为7.28亿元，占收入比例为23.4%，相较去年同期增长13.8%。

据披露，中微公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，业绩增长主要系：受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，2021年刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020年增长约55.44%，毛利率达到44.32%；由于下游市场原因以及本年新签署的Mini LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021年MOCVD设备收入为5.03亿元，较2020年增长约1.53%，但MOCVD设备的毛利率达到33.77%，较2020年的18.65%有大幅度提升。公司2021年新签订单金额为41.3亿元，较2020年增加约19.6亿元，同比增加约90.5%等。

在本次年报中，中微公司董事长尹志尧发表了致辞。他介绍，公司的各类等离子体刻蚀设备和薄膜设备已有超过2300个反应腔在中国大陆、亚洲和欧洲等70多条集成电路和微器件生产线实现大规模量产。公司CCP等离子体刻蚀设备产品在国内外一线客户的逻辑和存储芯片制造生产线上，包括先进的5纳米芯片生产线和下一代的试生产线上，持续提升市场占有率，在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前二位。公司ICP刻蚀设备在2021年也在客户端取得突破性进展，已通过诸多客户的工艺认证并获得重复订单。公司2021年ICP刻蚀机付运超过130腔，同比增长超过230%。

MOCVD设备方面，公司在2021年6月正式发布了用于高性能Mini LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax®，半年内即已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过100腔，并且不断收到更多的订单。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备，启动了应用于制造Micro LED、功率器件等生产的MOCVD设备的开发。

值得注意的是，进入2022年，公司MOCVD设备仍订单不断。3月28日，证券时报·e公司记者还从中微公司获悉，中微公司全资子公司南昌中微接到来自江西兆驰半导体有限公司（兆驰股份全资子公司）52腔Prismo Unimax®MOCVD设备采购订单。

对于未来发展战略，尹志尧表示，持续稳步推进既定的三维发展战略，既深耕集成电路关键设备领域，积极拓展泛半导体关键设备领域，又不断利用公司的核心竞争力，探索在新兴科技领域的市场机会。 

“在确保等离子体刻蚀设备及MOCVD设备等核心业务高速稳定成长之外，中微公司在集成电路的薄膜设备领域正在开发LPCVD设备（低压化学气相沉积设备）和EPI设备（外延生长设备），并已取得了良好进展。此外公司正在筹划开发ALD设备（原子层沉积设备）和ALE设备（原子层刻蚀设备）等关键设备。”尹志尧在致辞中谈到，公司同时认真考察、参与符合企业发展战略的投资机会，积极谨慎布局产业链上下游部分重点领域的投资。

据披露，在过去的十年中，中微一直保持了年销售持续超过30%的高速增长，公司在2021年还连续启动了三个建设项目。在江西省南昌市高新区约 14万平方米的研发生产基地已全面封顶，上海市临港新片区约18万平方米的研发生产基地和约10万平方米的总部大楼也在紧锣密鼓的建设。在两年之内，中微公司将会有十几倍大的厂房全面建成，为今后的大发展发展夯实基础。

半导体设备的研发和生产离不开资金的支持。尹志尧介绍，2021年公司成功完成再融资发行，募集资金约82亿元。公司的现金储备约100亿元，这给公司的研发、营运、投资和基本建设项目提供了资金保证。公司不断提升研发投入的强度和效率，有力地保障了公司在科技创新、高水平研发队伍建设、科学合规营运、国内外业务拓展、领先的客户服务支持等方面的质量，不断提升企业的综合竞争力，积累后续高速发展所需的产品、技术和营运能力等方面的重要储备。