龙图光罩：尊敬的投资者，您好！关于多重曝光技术，其在理论上确实可以通过图形分解和多次图案化流程，利用相对成熟的掩模版技术来支持更先进的芯片制程，但晶圆厂的潜在成本和工艺难度极高。掩模版的制程节点（如“40nm掩模版”）并非直接指其自身图形的最小物理线宽，而是指它能够稳定支持下游晶圆厂制造的芯片工艺节点。公司目前已完成40nm工艺节点的生产设备布局，并正积极推进65nm产品的送样以及90nm节点产品的量产导入。在产能建设方面，珠海募投项目已于2025年第二季度开始小规模量产，目前正处于产能爬坡与市场拓展的关键阶段，公司正致力于加速产能利用率的提升与客户合作的深化。关于公司各项业务的具体进展，请以官方披露的定期报告或临时公告为准。感谢您对公司的关注！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！公司近期的股价波动受宏观经济、行业周期、市场情绪等多重因素综合影响，截至目前公司生产经营正常，无应披露而未披露的重大事项，后续亦将严格按照法规要求履行信息披露义务。2025年一季度以来公司业绩出现波动，主要源于市场竞争格局的变化，公司为提升市场份额对部分客户采取了策略性降价，以及珠海新工厂投产后产能尚在爬坡阶段，固定资产折旧增加所致，这些是公司产能扩张与市场开拓的阶段性现象。公司的募集资金均严格按照披露用途投入于“高端半导体芯片掩模版制造基地”和“高端半导体芯片掩模版研发中心”项目，珠海工厂已于2025年第二季度实现小规模量产，正稳步推进产能释放与客户验证。公司始终坚信，夯实的技术底蕴、稳步推进的产能建设以及对国产替代趋势的准确把握是公司长期价值的坚实基础。公司上市前后所有财务数据均经严格审计，真实、准确、完整。未来，管理层将继续专注于提升核心竞争力，优化经营效率，力争以更好的业绩回报各位投资者的信任。感谢您的理解与支持！

龙图光罩：尊敬的投资者，感谢您对公司项目进展的关注。珠海一期目前正按计划推进量产爬坡工作，各项流程在有序开展中。产能释放是循序渐进的过程，受生产工艺优化、客户验证、订单释放等多重因素影响，存在一定的不确定性，公司将持续做好各环节管控，全力保障项目稳步推进。根据信息披露相关规则，项目具体进展及经营数据，公司将通过定期报告或临时公告及时披露，感谢您的理解与支持！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！公司目前产品的主要出口地区为马来西亚、中国台湾等，暂未出口到欧盟地区。感谢您对公司的关注！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！为确保全体股东公平获取公司股东人数信息，公司会在定期报告中披露对应时点的股东人数。如因特殊情形需查询其他月份股东人数，需携带本人身份证原件及持股证明到公司证券法务部进行现场查阅。感谢您的关注！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！公司管理层高度关注股价及交易量的市场表现，但股价波动受宏观经济、行业周期、市场情绪等多重因素综合影响，截至目前公司生产经营一切正常，无应披露而未披露的重大事项，后续亦将严格按照法规要求履行信息披露义务。为提升投资者信心，公司将深耕核心业务，持续提升经营管理能力，争取珠海工厂项目早日达产达效，同时严格控制各项成本费用，不断降本增效。公司将通过定期报告、投资者互动平台、业绩说明会等渠道强化与投资者的沟通，及时准确披露经营动态。关于公司上市相关文件如招股说明书等资料均经保荐机构、会计师事务所、律师事务所等中介机构审计核查，符合《证券法》等相关规定，信息真实、准确、完整，不存在虚假记载或重大遗漏。感谢您对公司的关注与监督！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！我们密切关注到重要合作伙伴英诺赛科和士兰微近期的积极进展，并对此表示祝贺。我们相信，合作伙伴的持续发展将有助于整个产业链的繁荣，并为公司带来新的业务机遇。关于产能问题，公司现有的产能能够有效满足客户订单的需求，同时也具备快速响应市场变化的能力。感谢您对公司的关注！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！公司高度重视与产业链各伙伴的合作机会。半导体掩模版是光刻工艺中不可或缺的关键部件。公司目前已掌握包括图形补偿（OPC）技术、精准对位标记技术、电子束光刻技术等在内的多项核心技术，工艺能力从130nm逐步提升至65nm，并已完成40nm工艺节点的生产设备布局。这些技术能力同时也是支持设备测试与性能验证、支撑光刻工艺精度和良率的重要基础。关于公司的具体客户情况、重大合作进展等详细信息，还请您以公司在法定披露媒体发布的定期报告或临时公告为准。感谢您对公司的关注！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！公司目前生产经营活动正常。公司始终密切关注市场动态，积极优化生产安排，以保障订单的顺利交付。关于四季度的具体业绩情况，请您关注公司后续通过官方媒体披露的定期报告。感谢您的理解与支持！

龙图光罩：尊敬的投资者，您好！关于公司的具体客户情况、业务合作进展等详细信息，还请您以公司在法定披露媒体发布的定期报告或临时公告为准。感谢您的理解与支持！