盛美上海：尊敬的投资者您好！根据公司科创板首次公开发行承诺事项，公司控股股东ACMR持有公司股票解禁日期为2024年11月18日。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！2022年，公司首次推出等离子体增强化学气相沉积PECVD设备，标志着公司在前道半导体应用中进一步扩展到全新的干法工艺领域，是公司产品平台化发展的关键一环。未来，公司将努力抓住中国半导体行业的快速发展机遇，充分发挥公司已有市场地位、技术优势、工艺积累和行业经验，发挥PECVD技术差异化的研发优势，与国内外多客户积极合作，加快开拓PECVD市场。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！自公司2021年11月18日上市以来，公司营收规模及净利润持续保持高速增长，盛美上海估值水平持续趋于合理区间。谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！根据中银证券专题报告的历年累计数据统计显示，公司清洗设备的国内市占率为23%。全球半导体清洗设备市场高度集中，尤其在单片清洗设备领域，DNS、TEL、LAM与SEMES四家公司合计市场占有率达到90%以上，其中DNS市场份额最高，市场占有率在35%以上。据统计，国内12英寸晶圆厂清洗设备主要来自DNS、盛美上海、LAM、TEL。谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！涂胶显影Track设备是公司清洗、涂胶和显影设备过去10多年专业知识积累自然推进的成果。基于强大的软件系统和机器人手臂方面的核心能力，结合经过市场验证的独立式涂胶机和显影机的深厚技术基础，公司预计2023年将有多客户DEMO订单。公司还在致力于开发大产出（＞400WPH）KrF涂胶显影机。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！目前公司PECVD设备仍处于验证阶段。该产品在工艺上具备与国际一流公司相竞争的差异化技术创新，能够同时满足更均匀、更少颗粒、更小的薄膜应力的要求，具备较好的市场开拓潜力。公司正在与多家客户洽谈DEMO订单。谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！公司在半导体先进封装领域进行差异化开发，目前已形成应用于先进封装工艺的清洗设备、电镀设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备、金属剥离设备以及无应力抛光平坦化设备等系列产品。公司如有引进战略投资者，将会按照相关法律法规及时履行信息披露义务。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！公司已建立了完善的采购体系，并致力于与主要供应商保持稳定的长期合作关系，公司正在积极布局提升国产零部件采购比例。目前，公司不对外披露具体供应商厂家及国内外供应商占比情况。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！根据《上海证券交易所科创板股票上市规则》，董事会决议涉及应当披露事项的，上市公司应当在相关事项公告中说明董事会审议情况。公司董事会审议情况已在相关公告中披露，具体请参见公司相关公告。公司严格遵守中国证监会及上交所的相关规定并履行信息披露义务。感谢您对公司的关注，谢谢！

盛美上海：尊敬的投资者您好！公司未在硅谷银行开立帐户，与其无业务来往。硅谷银行破产对公司不构成任何影响。感谢您对公司的关注，谢谢！