8月25日晚间，拓荆科技发布2025年半年度报告。

据披露，2025年上半年，公司实现营业收入19.54亿元，同比增长54.25%，其中第二季度单季营业收入达到12.45亿元，同比增长56.64%，环比第一季度增长75.74%，呈现加速增长态势。主要原因如下：产品竞争力持续提升，公司先进制程的验证机台已顺利通过客户认证，逐步进入规模化量产阶段。基于新型设备平台（PF-300T Plus和PF-300M）和新型反应腔（pX和Supra-D）的PECVD Stack（ONO叠层）、ACHM及PECVD Bianca等先进工艺设备，陆续通过客户验收，量产规模不断增加，ALD设备持续扩大量产规模，业务增长强劲。

市场拓展方面，公司持续优化客户结构，在巩固国内龙头晶圆厂合作的同时，成功导入新客户，市场渗透率进一步提升。截至报告期末，合同负债达45.36亿元，相较2024年年末增长52.07%，主要系在手订单增加所致，为后续收入持续增长奠定了基础。

利润方面，2025年上半年，公司实现归属于上市公司股东的净利润9428.80万元，同比降低26.96%，其中第二季度实现归属于上市公司股东的净利润2.41亿元，同比增长103.37%，环比第一季度增加3.88亿元，业绩改善显著，主要原因为：2025年上半年归属于上市公司股东的净利润同比下降，主要系2025年第一季度归属于上市公司股东的净利润大幅下滑所致，因2025年第一季度确认收入的新产品、新工艺的设备在客户验证过程成本较高，毛利率较低。随着公司新产品验证机台完成技术导入并实现量产突破和持续优化，2025年第二季度毛利率环比大幅改善，呈现稳步回升态势；随着公司运营效率的逐步提升，期间费用率同比下降，规模效应进一步释放利润空间等。

研发方面，公司报告期内的研发投入金额达到3.49亿元，同比增长11.09%，研发投入占营业收入比例为17.87%。

拓荆科技自设立以来，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕，聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备的研发与产业化应用。目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品，以及应用于三维集成领域的先进键合设备和配套的量检测设备产品，薄膜沉积设备产品已广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线，先进键合设备和配套的量检测设备产品已在先进存储、图像传感器（CIS）等领域实现量产。

随着芯片技术的迭代升级，公司先进产品和量产规模不断攀升，截至报告披露日，公司累计出货超过3000个反应腔（包括超过340个新型反应腔pX和Supra-D），进入超过70条生产线；公司薄膜沉积设备在客户端产线生产产品的累计流片量已突破3.43亿片。